スピンで表面反応を制御――水素の電子スピンの向きで表面吸着・反応確率が変化することを発見―― (IMAGE)

Institute of Industrial Science, The University of Tokyo

スピンで表面反応を制御――水素の電子スピンの向きで表面吸着・反応確率が変化することを発見――

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ニッケル表面におけるスピンの向きに依存した水素吸着

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東京大学 生産技術研究所

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