新竹教授の研究室にて (IMAGE)
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新竹積教授が市販の既製シリコンウェハーを手に取って観察している。背後には、インラインEUVリソグラフィに関するこれまでの設計で作られたプロトタイプが置かれている。現在は、高開口数)EUVリソグラフィに対応する新たなインライン設計のプロトタイプ開発が進められている。
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アンドリュー・スコット(OIST)
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